陕西省高一2024-2025学年度第一学期阶段性学习效果评估(二)2语文(RL)试题

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说。部分西方国家对我国芯片产业的打压使我们的先进工艺产品发展受阻种“卡脖子”反而此次中国科学院光子芯片技术的重大突推动了功率半导体领域相关厂商加大对国产芯片研发的支持力度，从而使国产功率半导体能够在芯片更加先进，达到了3nm的层次。试错、选代中不断发展。有人说：是否说明中国芯片已经达到了当前我国芯片产业“危”机”并存。从全球来讲，我国的芯片应用市场规模最大，增速也最快旧难以取代电子芯片。那么为何我们还要从总的市场占有规模来看，尽管国外厂商占据了全球大部分的市场份额，但是近几年国内企业有低，成本低，不用依赖极紫外光刻机等，最关#奋起直追的态势，在多个设备和材料领域也实现了突破。全可以让我们实现弯道超车。若以半导体产业的光电子领域为突破口，以“换道超车”的思维加上新型举国体制的制度，实现“领跑”也不是不可能。10.下列对上述文本的理解与分析，不正确的（选自《人民日报》，有删改）A.上述四则文本都是围绕“中国芯片”这【文本二】B材料一介绍我国芯片领域还面临一些C.“半导体工业皇冠上的明珠”一句形象芯片是这样“炼”成的D.中国攻克3nm光子芯片技术，说明中晶圆清洗11.请根据文本二，简要介绍芯片的生产过#光刻去胶子注封装测试膜沉【文本三】“数字时代”，芯片的重要性不言而喻。芯片在投入使用前，要经历上百道工序的纳米级改造。其中，“光刻”是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，光刻机更被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。#12.请在文本三中的横线处拟写恰当的标题半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来三、古诗文阅读（共15分）实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。整个过程涉及多种核心设备，其中（一）阅读下面语段，完成13～16题。（共1价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。光刻不难，难的是更精确地光刻。极紫外光波长为10~14nm，用这类光源作为光刻技术，是崇祯五年十二月，余住西湖。大雪三日生产5nm芯片必要的设备。这种高端光刻机—EUV光刻机（极深紫外线光刻机），是精密仪器炉火，独往湖心亭看雪。雾淞砀，天与云中的翘楚。极深紫外线并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来。使点、与余舟一茶、舟中人两三粒而已。用这种特殊的光源，不但整个光刻间都要处于真空状态，以尽量减少光能的损耗，其他细节的要求到亭上，有两人铺毡对坐，一童子烧酒也极为苛刻，因而EUV光刻机制造难度极大。余强饮三大白而别。问其姓氏，是金陵人，光刻机对“工作环境”相当挑剔公者。”光要纯：光刻房间要求全部为纯净的黄光，因为短波长的光会造成光刻胶变性。要无尘：每立方米的空气中不能有超过10个颗粒，并且颗粒大小要小于0.5微米，每小时要今所经中岭及山巅，崖限当道者，世苍山负雪，明烛天南。望晚日照城郭、汶水净化30万立方米的空气。戊申晦，五鼓，与子颖坐日观亭，待要安稳：厂房对地基要求也很严格，不能有任何微小的摄动。耗电高：一台EUV工作24小时，耗电量达到3万度，可支撑一辆电动自行车绕地球骑行六圈。中白若蒲数十立者，山也。极天云一之。或曰，此东海也。回视日观以西峰，或（选自《广东科技报》，有删改）【文本四】【注释】①崖限：像门槛一样的山崖。中国科学院宣布：已经攻克3nm光子芯片技术，2023年开建第一条生产线。届时，中国将会九日。晦：农历每月最后一日。④日观亭成为世界上第一个大规模量产光子芯片的国家。实际上，中国准备建设光子芯片生产线已经不是新闻。中科芯公司在2022年就已经着手筹色（shai）子。6极天：天的尽头，天边。容日观峰以西的山峰都低于日观峰，如同建，计划架设一条光子芯片的生产线。第4页（共6页）【语文·九年级HEN（第3期）·闯关卷（三）】第5页（共6页）【语文·